Atomlithographie

Atomlithographie,

 

Atomstrahllithographie, Herstellung von Strukturen integrierter Halbleiterbauelemente mit Methoden der Atomoptik. Wegen der im Vergleich zur Lichtwellenlänge kleineren Materiewellenlänge von Atomstrahlen lassen sich mit der Atomlithographie Nanostrukturen im Bereich unterhalb von 100 nm herstellen, die mit der Photolithographie derzeit nicht gefertigt werden können.

 

Unter Atomlithographie versteht man einerseits Verfahren, die »lithographisch« im ursprünglichen Wortsinn sind, indem sie - wie die alte Steindrucktechnik - die Benetzungseigenschaften von Oberflächen verändern: Durch Ablagerung dünner Atomschichten können anschließend an den benetzten Stellen dickere Schichten abgeschieden werden. Andererseits kann man die Atomlithographie auch direkt für das Wachstum nanostrukturierter Schichten einsetzten, indem man geeignete Atome (z. B. Chromatome) als verkleinertes Bild einer Vorlage (Layout) auf der Oberfläche abscheidet. In der Perspektive könnten damit auch dreidimensionale Muster erzeugt werden.